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微波等離子體化學氣相沉積方法在Si襯底上生長SiC納米線

2013-03-15 我要評論(0) 字號:
主題資源: 微波等離子
資料語言: 簡體中文
資料類別: PDF文檔
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更新時間: 2013-03-15 08:58:06
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資料簡介

物理學報  2001, Vol. 50  Issue (12): 2452-2455

胡穎
首都師范大學物理系,北京100037
SiC NANOWIRES GROWN ON SILICON(100) WAFER BY MPCVD METHOD
HU YING

摘要: 應用微波等離子體化學氣相沉積方法,在單晶Si(100)襯底上生長出SiC納米線.應用掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡、能量損失譜(EDS)和選區(qū)電子衍射(SAD)等方法對納米線化學組成和結構進行了分析和表征.給出該納米線的生長機理

引用本文:   
胡穎. 微波等離子體化學氣相沉積方法在Si襯底上生長SiC納米線. 物理學報, 2001, 50(12): 2455. 
Cite this article:   
HU YING. SiC NANOWIRES GROWN ON SILICON(100) WAFER BY MPCVD METHOD. Acta Phys. Sin., 2001, 50(12): 2452-2455. 

 

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