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【是德科技感恩月征文】光耦兩端的數(shù)字地與模擬地如何接

2018-03-28 來源:微波射頻網(wǎng) 作者:龔雪亮 字號:

大概去年7月份左右,參加了是德科技關(guān)于EMC的在線研討會,當時公司儀器準備做CE認證,電磁兼容存在很大問題,聽了一場在線會議,由于講座只講大概理論,針對我們公司儀器遇到的具體問題收獲不是很大,不過會議結(jié)束后他們送了一本鄭軍奇老師寫的《EMC電磁兼容設(shè)計與測試案例分析》第2版,對我們儀器整改作用太大。同時,也發(fā)現(xiàn)書中存在一些不足,說的不是很完整,下面以書中案例55為例,結(jié)合公司儀器,來說明書中案例55后得出的結(jié)論并不是百分之百適用所有產(chǎn)品(下面前4張照片是案例55的手機拍照,如果不清楚,請原諒我拍照水平太差)。

書中最后建議,相互光電隔離的數(shù)字地和模擬地之間要考慮到地點位平衡,采用電容連接,容值為1-10nf,對于這個結(jié)論,相信大部分情況是正確的。但是,有例外如下:

產(chǎn)品是大概是把極其微弱模擬信號放大后讓單片機ADC可以采樣,當然,模擬地和單片機數(shù)字地之間是通過0歐姆電阻連接。因為微弱信號只有幾mV,也就是說,模擬地稍微遇到一點干擾,就會嚴重影響到信號采樣和輸出。如果一起光耦兩端地模擬地和數(shù)字地之間不連接任何器件,儀器可以正常使用,如果連接電容10nf電容(因為50Hz頻率很低,所以即使按照書上推薦的耐壓值較高的10nf陶瓷電容容值也顯得太小),發(fā)現(xiàn)儀器沒法探測到微弱信號,無法正常使用。

使用了光耦就等于多了一塊不同的地,產(chǎn)品會更容易受到干擾,電磁兼容越難通過,對于處理不同接地的方法還有:0歐姆電阻,電感,磁珠,這3中元件使用在這里都不合適。

產(chǎn)品使用的光耦

產(chǎn)品是大概是把極其微弱模擬信號放大后讓單片機ADC可以采樣,當然,模擬地和單片機數(shù)字地之間是通過0歐姆電阻連接。因為微弱信號只有幾mV,也就是說,模擬地稍微遇到一點干擾,就會嚴重影響到信號采樣和輸出。如果一起光耦兩端地模擬地和數(shù)字地之間不連接任何器件,儀器可以正常使用,如果連接電容10nf電容(因為50Hz頻率很低,所以即使按照書上推薦的耐壓值較高的10nf陶瓷電容容值也顯得太小),發(fā)現(xiàn)儀器沒法探測到微弱信號,無法正常使用。

使用了光耦就等于多了一塊不同的地,產(chǎn)品會更容易受到干擾,電磁兼容越難通過,對于處理不同接地的方法還有:0歐姆電阻,電感,磁珠,這3中元件使用在這里都不合適。

“又趣、有料、有驚喜——是德感恩月第三季”

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