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資料語言: | 簡體中文 |
資料類別: | PDF文檔 |
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更新時(shí)間: | 2013-03-12 17:45:19 |
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物理學(xué)報(bào) 2002, Vol. 51 Issue (2): 347-350
楊仕娥, 姚寧, 王小平, 李會軍, 馬丙現(xiàn), 秦廣雍, 張兵臨
鄭州大學(xué)物理工程學(xué)院,鄭州450052
摘要: 采用Mo離子注入工藝對YG6硬質(zhì)合金基體表面進(jìn)行處理,用微波等離子體CVD(MPCVD)法沉積金剛石涂層,研究了Mo離子注入工藝對金剛石涂層附著性能的影響.結(jié)果表明,Mo離子注入后,硬質(zhì)合金基體表面的化學(xué)成分發(fā)生了明顯變化;采用適當(dāng)劑量的Mo離子注入基體,可使CVD金剛石涂層的附著性能顯著提高.
引用本文:
楊仕娥,姚寧,王小平 等 . Mo離子注入對金剛石涂層附著性能的影響. 物理學(xué)報(bào), 2002, 51(2): 350.
Cite this article:
$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN et al. . Acta Phys. Sin., 2002, 51(2): 347-350.
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