物理學(xué)報(bào)  2002, Vol. 51  Issue (2): 347-350

楊仕娥, 姚寧, 王小平, 李會(huì)軍, 馬丙現(xiàn), 秦廣雍, 張兵臨
鄭州大學(xué)物理工程學(xué)院,鄭州450052

摘要： 采用Mo離子注入工藝對(duì)YG6硬質(zhì)合金基體表面進(jìn)行處理,用微波等離子體CVD(MPCVD)法沉積金剛石涂層,研究了Mo離子注入工藝對(duì)金剛石涂層附著性能的影響.結(jié)果表明,Mo離子注入后,硬質(zhì)合金基體表面的化學(xué)成分發(fā)生了明顯變化;采用適當(dāng)劑量的Mo離子注入基體,可使CVD金剛石涂層的附著性能顯著提高.

引用本文:   
楊仕娥,姚寧,王小平 等 . Mo離子注入對(duì)金剛石涂層附著性能的影響. 物理學(xué)報(bào), 2002, 51(2): 350. 
Cite this article:   
$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN et al. . Acta Phys. Sin., 2002, 51(2): 347-350. 

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