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華為LTE研發貢獻再獲北美大獎

2010-11-16 來源:微波射頻網 字號:
華為近日宣布,在2010年LTE北美峰會(LTE North America 2010)上,華為獲頒“北美LTE研發最佳貢獻”大獎。這是華為繼在2010年LTE全球峰會上榮獲“LTE研發最佳貢獻獎”之后,華為在LTE研發領域獲得的又一項重量級獎項,標志著華為LTE技術研發上的持續投入與貢獻終結碩果,獲得業界認可。

作為LTE領域在北美地區久負盛名的獎項,今年的大會吸引了800多名來自北美區LTE產業鏈上的運營商、網絡設備商、終端供應商、芯片供應商等組織等參加。本屆LTE北美大獎由獨立的獎項評審委員會經嚴格評選產生,特別表彰了華為在北美地區LTE研發上的持續投入,以及在實驗室建設、LTE專利數量和研究成果等方面取得的顯著成績。

華為LTE產品線總裁應為民說:“華為一直堅持在LTE上的研發投入。這次獲獎不僅證明華為的LTE研發實力處于業界領先地位,而且說明華為長期以來為LTE產品的成熟商用和產業鏈發展所作出的努力得到了業界的認可。”

華為從2004年開始投入LTE研發,在美國和加拿大設立了8個研發中心。北美的電信運營商和業內合作伙伴借助華為提供的研發平臺與華為一道深入探索LTE技術,體驗華為業界領先的LTE解決方案。同時,華為北美的研發團隊與北美的電信運營商進行更緊密的合作,對LTE系統進行部署前的嚴格測試。

截至2010年第三季度,華為在全球以18個LTE商用合同位居全球第一,同時獲得70多個LTE試驗局。截至2010年10月, 華為累計向3GPP提交超過5800篇LTE/SAE提案,并在ETSI(歐洲電信標準協會)的LTE基礎專利申明量超過270項,位居設備商第一。

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